Vědecký pracovník/ce - specialista pro elektronovou litografii

Pracovní nabídka

Skupina elektronové litografie (EBL) na Ústavu přístrojové techniky Akademie věd ČR se specializuje na výzkum a vývoj mikro- a nanolitografických technologií využívajících elektronový svazek. Zaměřujeme se na návrh a výrobu struktur pro široké spektrum aplikací v oblastech optiky, senzoriky a bezpečnostních technologií. Pro rozšíření portfolia výzkumných aktivit zaměřených na vývoj polovodičových/fotonických čipů hledáme uchazeče na pozici specialisty na elektronovou litografii se zaměřením na polovodiče.

Volná pozice: Vědecký pracovník – specialista na elektronovou litografii

Náplň práce:

• Vývoj a realizace nanofabrikačních procesů založených na kombinaci elektronové litografie (EBL) a 3D nanotisku na nanometrové škále (dvoufotonová polymerace)
• Návrh, optimalizace a experimentální ověřování hybridních technologických postupů pro výrobu 2D a 3D nanostruktur
• Příprava, realizace a vyhodnocení simulací technologických procesů (např. rozptyl elektronů, depoziční procesy, mechanické a elektrické vlastnosti struktur)
• Práce se simulačními a návrhovými nástroji po zaškolení (např. COMSOL Multiphysics, Monte Carlo simulace, CAD nástroje pro návrh nanostruktur)
• Návrh 2D/3D masek a struktur, příprava výrobních dat a jejich převod do formátů pro elektronovou litografii a 3D nanotisk
• Charakterizace připravených nanostruktur pomocí materiálových a povrchových analytických metod (SEM, AFM, případně FIB, TEM, profilometrie, EDX)
• Optimalizace materiálů pro elektronové rezisty a inkousty, optimalizace depozičních procesů pro hybridní nanofabrikační technologie
• Podíl na přípravě a řešení vědeckých projektů, tvorbě technické dokumentace, publikační činnosti a prezentaci výsledků na odborných fórech

Požadavky:

• Vysokoškolské vzdělání v oboru technických věd se zaměřením na fyziku, mikro- a nanotechnologie, elektronovou litografii nebo aditivní nanovýrobu, zakončené doktorátem (Ph.D.)
• Praktické zkušenosti s elektronovou litografií (e-beam lithography) a/nebo 3D nanotiskem (např. dvoufotonová polymerace, FEBID, FIBID apod.)
• Znalost materiálových analytických a charakterizačních metod pro nano- a mikrostruktury (SEM, AFM, případně FIB, konfokální mikroskopie, profilometrie; znalost dalších metod výhodou)
• Zkušenosti s programováním v jazyce Python (např. pro zpracování dat, automatizaci měření nebo návrh struktur)
• Znalost softwaru Origin a programovacího prostředí MATLAB výhodou
• Zájem o vědeckou práci a další vzdělávání
• Aktivní znalost anglického jazyka
• Schopnost samostatné vědecké práce
• Ochota učit se nové věci a nadšení pro obor

Nabízíme:

• Nadstandardní platové ohodnocení
• Fond kulturních a sociálních potřeb (např. příspěvek na dovolenou, sportovní a kulturní akce)
• 5 týdnů dovolené
• Práci v mladém a dynamickém kolektivu
• Možnost profesního růstu a dalšího vzdělávání
• Účast na projektech základního i aplikovaného výzkumu
• Účast na mezinárodních vědeckých konferencích a stážích
• Možnost závodního stravování (příspěvek na stravování), kantýna v areálu
• Hlídané parkování na pracovišti

Nástup: květen 2026

Přihlášky doplněné strukturovaným životopisem a kopiemi dokladů o dosaženém vzdělání zasílejte na adresu: